オランダはASMLの特定の機器を輸出禁止リストに加えると予想される一方、米国は北京の特定の工場に制限を課すと予想される。
米国は昨年10月以来、国家安全保障上の理由からラムリサーチやアプライドマテリアルズなどの企業による中国への半導体製造装置の輸出を制限しており、世界の半導体サプライチェーンの主要「リンク」に同様の措置を取るよう働きかけるキャンペーンを開始した。
ニコンや東京エレクトロンといった半導体製造装置メーカーの本拠地である日本も、7月23日から23種類の半導体製造装置の輸出を制限する規則を導入した。
オランダ政府は、現在輸出禁止リストに載っている極端紫外線（EUV）リソグラフィー装置に次いでASMLの2番目に優れた装置ラインである深紫外線（DUV）装置に対する新たな輸出規制を6月30日に発表すると予想されている。
ASMLは3月に、政府の規制にTWINSCAN NXT:2000i製品ラインやより複雑なモデルが含まれる可能性があると予想していると述べた。
しかし、TWINSCAN NXT:1980Diなどの古いDUVモデルも、中国の約6つの製造施設への輸出が禁止される可能性があります。ロイターの情報筋によると、新たな規則により、米国政府は特定の半導体工場を「制裁対象」に指定し、米国製の部品が少量しか含まれていない装置であっても輸出制限を課すことが可能になるという。
計画によれば、オランダの新しい規制は直ちに発効するのではなく、9月（発表の2か月後）から実施される予定だ。
一方、米国は、中国最大の半導体企業であるSMICの工場を含む中国本土の特定の半導体施設への機器輸出にライセンスを義務付けるなど、早ければ7月下旬にも新たな制限を発表する可能性がある。
世界有数の半導体製造装置メーカーであるASMLのほか、ASMインターナショナル（原子層堆積システム）など、他の数社もオランダの新規則の影響を受けることになる。
（ロイター通信によると）
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