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SMIC développe une technologie de fabrication de puces de 3 nm

Báo Thanh niênBáo Thanh niên24/12/2023


Selon Gizmochina , SMIC aurait développé une technologie de puce 7 nm de deuxième génération qui peut être utilisée pour produire des puces de smartphone. Ne s’arrêtant pas là, l’entreprise poursuit actuellement des recherches sur la technologie de fabrication de puces de 5 nm et 3 nm.

SMIC phát triển công nghệ sản xuất chip 3nm- Ảnh 1.

SMIC cherche à faire une percée en produisant des puces de 3 nm avec des machines DUV.

La recherche est menée en interne par l'équipe de R&D de l'entreprise et est dirigée par le co-PDG Liang Mong-Song, un scientifique renommé des semi-conducteurs qui a travaillé chez TSMC et Samsung. Il est considéré comme l’un des esprits les plus brillants de l’industrie des semi-conducteurs.

Cela signifie que les limitations actuelles ne peuvent pas arrêter complètement les progrès de SMIC dans le développement de puces plus avancées que 7 nm. Cela a simplement ralenti la croissance de l’entreprise, même si une combinaison de facteurs a aidé SMIC à surmonter les défis.

SMIC est désormais le cinquième plus grand fabricant de puces sous contrat du secteur. L’entreprise a perdu l’accès aux outils de fabrication de plaquettes les plus avancés, ce qui a considérablement limité sa capacité à adopter de nouvelles technologies de processus. Plus précisément, en raison des sanctions américaines, la société n'a pas pu recevoir de machines de lithographie ultraviolette extrême (EUV) d'ASML et s'est uniquement arrêtée à la lithographie ultraviolette profonde (DUV) pour le processus de fabrication de puces 7 nm de deuxième génération.

La machine de lithographie ASML Twinscan NXT:2000i est le meilleur outil disponible chez SMIC. L'appareil peut graver des résolutions de production allant jusqu'à 38 nm, un niveau de précision suffisant pour produire des moules pour des puces de 7 nm. ASML et IMEC ont déclaré que pour produire des puces de 5 nm et 3 nm, les niveaux de résolution de fabrication requis seront respectivement de 30 à 32 nm et de 21 à 25 nm.

Pour parvenir à une fabrication de puces inférieure à 7 nm sans recourir à l'EUV, SMIC devra adopter un processus multi-modèles complexe, qui peut affecter le rendement et user l'équipement de fabrication. Le coût d’utilisation de plusieurs modèles est également assez élevé. Malgré cela, SMIC est toujours déterminé à évoluer vers la production de puces 3 nm. En cas de succès, la production de puces de 3 nm utilisant uniquement du DUV constituerait une étape majeure pour le fabricant chinois.



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