จีนกำลังเข้าใกล้การผลิตชิป 5 นาโนเมตรด้วยตนเอง

ตามรายงานของ Xataka เกือบสองเดือนหลังจากที่ Mate 60 Pro ปรากฏตัว ผู้เชี่ยวชาญในด้านการผลิตวงจรรวมเห็นพ้องต้องกันว่าวิศวกรของ SMIC ได้ใช้อุปกรณ์ลิโธกราฟีฝัง TwinScan NXT:2000i UVP ของ ASML รวมทั้งเครื่องมือที่ออกแบบโดย Huawei เพื่อพัฒนาชิปดังกล่าว แม้จะไม่ทันสมัยเท่ากับการพิมพ์หินด้วยแสงอัลตราไวโอเลตขั้นสูง (EUV) แต่ก็สามารถใช้เครื่อง UVP เพื่อผลิตชิปขนาด 5 นาโนเมตรและ 7 นาโนเมตรได้ ตราบใดที่กระบวนการผลิตมีการปรับปรุงให้ดีเพียงพอ

Mỹ sẽ không thể ngăn cản Trung Quốc tự sản xuất chip 5nm - Ảnh 1. — การสร้างชิป 5 นาโนเมตรจาก TwinScan NXT:2000i UVP เองถือเป็นความสำเร็จทางเทคโนโลยี

หนึ่งในผู้เชี่ยวชาญที่ช่วยเปิดเผยเรื่องนี้คือ Burn-Jeng Lin วิศวกรไฟฟ้าที่เคยดำรงตำแหน่งรองประธานของ TSMC ในบทสัมภาษณ์กับสำนักข่าว Bloomberg เมื่อเร็วๆ นี้ หลินกล่าวว่าสหรัฐฯ จะไม่สามารถทำอะไรได้เลยเพื่อหยุดยั้งจีนจากการปรับปรุงเทคโนโลยีการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ต่อไป ในความเป็นจริง SMIC สามารถผลิตชิปขนาด 5 นาโนเมตรโดยใช้อุปกรณ์ TwinScan NXT:2000i UVP

ก่อนหน้านี้ในเดือนกันยายนที่ผ่านมา ช่างเทคนิค ของ TechInsights คาดการณ์ว่าหากวิศวกรของ SMIC ทำงานได้ดีในการปรับปรุงเทคโนโลยีการผสานรวมเพื่อผลิตชิปขนาด 7 นาโนเมตรโดยใช้อุปกรณ์ UVP ของ ASML ชิปขนาด 5 นาโนเมตรก็อาจเกิดขึ้นได้อย่างแน่นอน ข้อสงสัยประการหนึ่งที่เกิดขึ้นในเวลานั้นคือ SMIC จะสามารถทำงานได้ถึงประสิทธิภาพต่อเวเฟอร์เท่าใด แต่จากโฆษณาของ Huawei แสดงให้เห็นว่า SMIC สามารถผลิตชิปออกมาได้เพียงพอที่จะรองรับ Mate 60 Pro จำนวน 70 ล้านหน่วย

การผลิตชิปขนาด 5 นาโนเมตรมีความซับซ้อนมากกว่าชิปขนาด 7 นาโนเมตรมาก ในทางทฤษฎีแล้ว TwinScan NXT:2000i สามารถทำได้ แต่วิศวกรของ SMIC จะต้องถูกบังคับให้เปลี่ยนไปใช้เวเฟอร์เพื่อเพิ่มความละเอียดของกระบวนการพิมพ์หิน มีแนวโน้มว่าวิศวกรของ SMIC ใช้เทคนิคนี้ในการผลิตชิป Kirin 9000S แต่เพื่อให้ได้ชิปขนาด 5 นาโนเมตร พวกเขาจะต้องใช้รูปแบบที่ซับซ้อนกว่านั้นมาก

ผู้เชี่ยวชาญกล่าวว่าคงไม่น่าแปลกใจหากในอีกไม่กี่เดือนข้างหน้าจะมีการเปิดตัวสมาร์ทโฟน Huawei รุ่นใหม่ที่ใช้ชิป 5 นาโนเมตรที่ผลิตโดย SMIC หากสิ่งนั้นเกิดขึ้นจริง นั่นคงเป็นความสำเร็จครั้งยิ่งใหญ่ เพราะการทำสิ่งนั้นโดยใช้อุปกรณ์ ASML UVP เป็นเรื่องที่ยากมากหรืออาจเรียกได้ว่าเป็นไปไม่ได้เลย สหรัฐฯ ได้ขยายการคว่ำบาตรออกไปเพื่อป้องกันไม่ให้ ASML จัดหา TwinScan NXT:2000i ให้กับจีนตั้งแต่วันที่ 16 พฤศจิกายน นอกจากนี้ แม้แต่อุปกรณ์ TwinScan NXT:1980Di ก็ยังอยู่ในรายชื่อที่ถูกห้ามอีกด้วย ในบริบทนั้น วิธีเดียวที่จีนจะก้าวหน้าได้คือการออกแบบและผลิตเครื่องจักร EUV ของตัวเอง ขณะนี้ประเทศกำลังวิจัยเครื่องจักร EUV ของตัวเอง แต่ไม่น่าจะเกิดขึ้นได้จนกว่าจะสิ้นทศวรรษนี้

ลิงค์ที่มา