Компания Huawei Technologies и ее секретный партнер по производству микросхем в Китае подали заявку на патент на простой, но потенциально эффективный технологический метод производства современных полупроводников, что дает Китаю возможность усовершенствовать свои технологии производства микросхем, несмотря на попытки США заблокировать этот процесс, сообщает Bloomberg .
Патентные заявки, поданные в ведомство интеллектуальной собственности Китая, свидетельствуют о том, что компании разрабатывают технологию, известную как самовыравнивающееся четырехмерное моделирование (SAQP), которая позволит снизить зависимость от передовых методов литографии.
SAQP — это метод многократного травления линий на кремниевой пластине для увеличения плотности транзисторов и улучшения производительности микросхемы.
Эта технология позволяет им производить усовершенствованные чипы без необходимости использования современного оборудования для литографии в экстремальном ультрафиолете (EUV) от ASML, единственного в мире поставщика машин EUV, базирующегося в Нидерландах, который, однако, не может продавать их в Китае из-за ограничений США.
«Применение этого патента увеличит свободу проектирования схем», — говорится в заявке, поданной в Национальное ведомство интеллектуальной собственности Китая.
Китайские технологические гиганты, такие как Huawei, стремятся расширить возможности внутреннего производства микросхем. (Фото: Рейтер)
Компания SiCarrier, разработчик оборудования для производства микросхем, финансируемый государством и работающий в партнерстве с Huawei, в конце 2023 года получила патент, связанный с SAQP. В их патенте используется технология глубокой ультрафиолетовой литографии DUV вместе с технологией SAQP для достижения определенных технических пороговых значений на 5-нм микросхемах. Этот метод может заменить использование машин EUV, одновременно снижая производственные затраты.
По словам Дэна Хатчесона, вице-президента исследовательской компании TechInsights, технологии SAQP достаточно для производства Китаем 5-нм чипов, но в долгосрочной перспективе стране все равно необходимо будет получить EUV-машины.
«Новая технология может облегчить некоторые трудности в производстве современных чипов, но не может полностью преодолеть технические проблемы, вызванные отсутствием EUV», — сказал г-н Дэн.
Ведущие производители микросхем, такие как Taiwan Semiconductor Manufacturing Corporation (TSMC), используют машины EUV для производства современных микросхем из-за их высокой производительности. Если Huawei и ее партнеры будут использовать альтернативные методы производства полупроводников, их цены за чип могут оказаться выше отраслевого стандарта.
Самые передовые чипы, находящиеся сегодня в коммерческом производстве, используют технологию 3 нм, включая чипы, которые TSMC производит для Apple. В настоящее время Китай способен производить чипы по 7 нм, что отстает примерно на два поколения. Переход на 5 нм поможет Китаю сократить отставание на одно поколение.
США и их союзники уже много лет ограничивают доступ Китая к полупроводникам и оборудованию для производства микросхем, включая запрет на экспорт машин для производства микросхем EUV компании ASML и самых мощных графических процессоров Nvidia, которые используются для обучения служб искусственного интеллекта.
Администрация президента США Джо Байдена заявила, что такой контроль «необходим для национальной безопасности».
Однако китайские компании инвестируют миллиарды долларов в развитие внутренних мощностей по производству чипов, а в прошлом году компания Huawei выпустила новаторский смартфон на базе усовершенствованного 7-нм процессора. Это свидетельствует о том, что технологический сектор Китая добивается прогресса, несмотря на усилия США, Нидерландов и Японии.
Вашингтон ищет новые способы сдержать продвижение Пекина. Они призывают своих союзников, таких как Южная Корея и Германия, присоединиться к этим усилиям и рассматривают возможность внесения в черный список нескольких других китайских компаний по производству чипов, связанных с Huawei, включая SiCarrier.
Группа китайских производителей оборудования для производства микросхем, включая Naura и AMEC, также рассматривает возможность добавления дополнительных технологий формирования шаблонов с помощью систем травления для производства микросхем с технологическим процессом 7 нм и выше, поскольку «технология EUV вне досягаемости», согласно отчету аналитиков Citigroup.
«Китайские компании по производству полупроводников в основном используют SAQP для производства современных чипов, что может увеличить плотность травильных машин в Китае», — говорится в отчете.
В этом году Пекин оказал полную поддержку крупнейшим поставщикам оборудования для производства микросхем в стране. В этом месяце премьер Госсовета КНР Ли Цян посетил офис Naura с широко разрекламированным личным визитом, призванным продемонстрировать поддержку центрального правительства.
Источник
Комментарий (0)