TS. Phạm Hồng Tuấn (đứng thứ hai từ trái sang) – Ảnh: NVCC
TS. Phạm Hồng Tuấn là một trong 700 đại biểu điển hình tiên tiến – những bông hoa tươi thắm trong phong trào thi đua yêu nước, những tấm gương tiêu biểu, đại diện cho hàng triệu tập thể, cá nhân tiêu biểu, xuất sắc trên mọi miền của Tổ quốc được vinh danh tại Hội nghị biểu dương, tôn vinh điển hình tiên tiến toàn quốc, nhân kỷ niệm 75 năm Ngày Chủ tịch Hồ Chí Minh ra Lời Kêu gọi thi đua ái quốc (11/6/1948-11/6/2013).
Bày tỏ niềm hạnh phúc, vinh dự và tự hào, TS. Phạm Hồng Tuấn cho biết đây là sự ghi nhận kết quả không chỉ của cá nhân anh mà của cả đơn vị, đã bền bỉ theo đuổi chuyên môn và hỗ trợ anh trong thời gian dài.
PVD là viết tắt của thuật ngữ Physical Vapor Deposition, nghĩa là “sự lắng đọng hơi vật lý”. Trong quá trình mạ PVD vật liệu rắn được bốc hơi trong môi trường chân không và lắng đọng trên chất nền dưới dạng màng mỏng vật liệu đơn chất hoặc hợp chất.
Phương pháp PVD được ứng dụng trong sản xuất chế tạo vi mạch và thiết bị bán dẫn, các màng bảo vệ bền vững trong cơ khí chính xác, ống kính quang học, tấm pin năng lượng mặt trời, trong nhiều thiết bị y tế…
Khoa học vì cuộc sống
TS. Phạm Hồng Tuấn chia sẻ từ năm 1988, GS. Vũ Đình Cự khi đó là Viện trưởng Viện Công nghệ quốc gia và TS. Đặng Xuân Cự, Viện trưởng Viện Công nghệ Quang học đã quan tâm đặc biệt đến công nghệ chế tạo màng mỏng quang học phục vụ cho các lĩnh vực khác nhau của nền kinh tế quốc dân.
Mặc dù được sử dụng trong nhiều ngành công nghiệp nhưng lúc đó công nghệ mạ PVD ít được biết đến tai Việt Nam, chỉ giới hạn ở một số nhỏ nhóm nghiên cứu tại một số trường đại học và viện nghiên cứu lớn. Các nghiên cứu và kết quả ứng dụng công nghệ này còn rất hạn chế.
Khi đó anh Tuấn mới là một kỹ sư trẻ mới ra trường, chưa được đào tạo về công nghệ mạ PVD, được phân công tham gia nhóm nghiên cứu. Với sức trẻ nhiệt huyết, anh Tuấn luôn tâm niệm phải nắm vững công nghệ chuyên ngành của mình, phải ứng dụng tạo ra được sản phẩm cuối cùng.
Tuy nhiên, thời gian đầu tiếp cận công nghệ này cũng là thời điểm muôn vàn khó khăn. Để nắm vững công nghệ không hề dễ dàng, hầu hết thông tin trên sách vở thường chỉ đề cập kiến thức đại cương, còn nhiều điều sẽ rất khó tìm được ở bất cứ đâu, mà phải “trả giá” bằng thời gian và thực tế mới nắm bắt được.
Hơn nữa, trong điều kiện nước ta còn khó khăn, đầu tư cho nghiên cứu và phát triển (R&D) còn hạn chế, nên có những tri thức phải tích lũy dần, sau nhiều năm mới có. Và với khách hàng, các giải pháp công nghệ của mình tạo ra phải phù hợp với khả năng tài chính và điều kiện cụ thể của họ.
35 năm miệt mài theo đuổi công nghệ mạ PVD là 35 năm cống hiến với đam mê nghiên cứu khoa học. Những cố gắng của TS. Phạm Hồng Tuấn đã được đền đáp.
Anh đã trực tiếp nghiên cứu, lãnh đạo nhóm chuyên môn, lãnh đạo đơn vị, khắc phục nhiều trở ngại, từng bước tiếp cận làm chủ một số công nghệ mạ PVD quan trọng như: Phương pháp bốc hơi bằng chùm tia điện tử, phương pháp phún xạ cao tần (RF-Sputtering), phương pháp phún xạ xung DC magnetron, phương pháp lắng đọng màng có hỗ trợ bằng nguồn ion (Ion Assisted Deposition: IAD) cho phép chế tạo các hệ màng mỏng chất lượng cao, bền vững với điều kiện môi trường. Làm chủ phương pháp tính toán, thiết kế mô phỏng, tối ưu hoá các hệ màng mỏng quang học đặc thù với các chức năng quang học đa dạng và phức tạp.
TS. Phạm Hồng Tuấn và Trung tâm Quang điện tử cũng đã thiết kế chế tạo thiết bị mạ chân không theo phương pháp hồ quang và phún xạ. Làm chủ công nghệ mạ hồ quang chân không chế tạo một số loại màng cứng (TiN, TiC, TiCN, CrN, ZrN), ứng dụng thành công cho một số khuôn đúc nhựa làm việc trong môi trường ăn mòn cao, khuôn đúc hợp kim nhôm, kẽm, các chi tiết cơ khí chính xác. Làm chủ công nghệ mạ chân không kim loại trên nền nhựa kĩ thuật, triển khai sản xuất qui mô pilot cho các sản phẩm pha đèn xe máy, xe đạp điện, pha đèn LED có chất lượng cao.
TS. Phạm Hồng Tuấn là chủ nhiệm của nhiều đề tài cấp Bộ, cấp Nhà nước và đoạt nhiều giải thưởng cho các đề tài nghiên cứu. Khẳng định sẽ mãi cống hiến và giữ “ngọn lửa” đam mê với nghiên cứu khoa học, TS. Phạm Hồng Tuấn cho hay anh hy vọng, thời gian tới, Nhà nước sẽ có thêm các chính sách để khuyến khích doanh nghiệp trích lập quĩ đầu tư cho R&D, bởi hiện nay đã có chính sách miễn thuế với khoản trích lập quĩ, song vẫn còn khó khăn, vướng mắc trong quá trình thực thi do đó nhiều doanh nghiệp vẫn chưa thực hiện.
Bên cạnh đó, phát triển khả năng “cung” công nghệ của mọi thành phần trong xã hội, đặc biệt là các viện, trường. Đồng thời, tiếp tục đổi mới cơ chế chính sách quản lý khoa học, để thực sự tạo thuận lợi cho những người làm công tác nghiên cứu. Công tác truyền thông cần mạnh mẽ hơn, để cổ vũ những tấm gương sáng tạo, vượt khó, tạo ra sản phẩm tốt cho xã hội.
“Không chỉ cần mức thu nhập tối thiểu để ổn định cuộc sống, các nhà khoa học cũng mong được xã hội ghi nhận, khích lệ, được động viên và có những điều kiện để theo đuổi niềm đam mê nghiên cứu lâu dài”, TS. Phạm Hồng Tuấn nói.
TS. Phạm Hồng Tuấn tin tưởng rằng Hội nghị biểu dương, tôn vinh điển hình tiên tiến toàn quốc ngày hôm nay sẽ lan toả tinh thần thi đua yêu nước rộng khắp trên tất cả các lĩnh vực, tới mọi vùng miền của Tổ quốc, truyền cảm hứng các bạn trẻ nói chung, các nhà khoa học nói riêng, theo đuổi đam mê nghiên cứu khoa học, nỗ lực tìm tòi phát triển các ứng dụng mới có ích cho kinh tế-xã hội.
Nguồn baochinhphu
