캐논의 최신 나노 리소그래피 시스템은 극자외선(EUV) 리소그래피 시장을 장악하고 있는 네덜란드 기업 ASML과 경쟁합니다. ASML의 기계는 최신 iPhone에 사용되는 최첨단 칩을 생산하는 데 사용됩니다.
ASML의 EUV 기술은 5nm 이하의 반도체 제조에 사용되는 기술로 인해 세계 유수의 칩 제조업체들 사이에서 점점 더 인기를 얻고 있습니다. Nm은 칩에 있는 트랜지스터 사이의 거리를 나타내며, 숫자가 작을수록 트랜지스터 수가 많아지고, 따라서 칩의 전력이 증가합니다.
캐논은 FPA-1200NZ2C 나노리소그래피 장비가 5nm, 심지어 2nm 공정에 상응하는 반도체를 생산할 수 있다고 말합니다. iPhone 15 Pro 및 Pro Max의 A17 Pro 칩은 3nm 공정으로 제조되었습니다.
세계 최대 규모의 칩 파운드리인 TSMC와 삼성은 2025년까지 2nm 칩을 생산할 계획입니다.
리소그래피 기계는 반도체 소재에 칩 디자인을 인쇄하는 데 핵심적인 장비입니다. ASML의 프린터는 공정 과정에서 자외선을 사용하지만, 캐논의 기계는 특별한 파장의 광원이 필요하지 않아 전력 소모가 줄었습니다.
캐논의 카메라, 광학, 프린터 분야 강점이 세계적으로 인공지능과 같은 기술을 구동하기 위해 더 많은 칩이 필요한 시기에 반도체 산업에서 새로운 활용처를 찾고 있습니다.
나노리소그래피(NIL) 기술은 2004년에 개발되었지만 EUV 프린터가 칩 인쇄 성능이 더 뛰어나기 때문에 아직 정교한 칩 분야에서는 성공하지 못했습니다.
반도체는 AI와 군사적 응용 분야 등의 분야에서 중요하기 때문에 미국과 중국 간 기술 전쟁의 중심에 있습니다.
미국은 수출 제한과 기타 제재를 통해 중국이 반도체 칩과 주요 반도체 제조 장비에 접근하는 것을 거부하고, 이미 뒤처져 있는 기술 분야에서 세계 2위의 경제 대국인 중국을 계속 뒤처지게 하려고 합니다.
네덜란드 정부는 ASML이 중국에 EUV 프린터를 수출하는 것을 금지했으며, 현재까지 해당 국가에 단 한 대의 기계도 판매하지 않았습니다. 그 이유는 최신 칩을 생산하는 데 필요하기 때문입니다.
하지만 캐논은 이제 자사의 NIL 프린터가 칩 제조업체가 2nm 수준의 반도체를 생산하는 데 도움이 될 수 있다고 주장합니다. 그러므로 이것도 감시의 대상이 되었을 가능성이 크다.
캐논은 중국에 기계를 판매할 가능성에 관한 CNBC의 질문에 응답하지 않았습니다.
중국은 리소그래피 기계 기업을 만드는 데 어려움을 겪고 있으며, 국내 산업이 반도체 생산 능력을 향상하도록 지원하고 있습니다.
화웨이는 7nm 칩을 사용한 새로운 스마트폰을 출시했습니다. 이는 ASML의 EUV 프린터 없이는 달성하기 어려운 발전입니다. 이는 칩의 원산지에 대한 의문을 제기하고 다른 잠재적 제재로 이어질 수 있습니다.
로이터는 미국이 중국에 AI 칩과 반도체 제조 도구 판매와 관련된 규정을 업데이트할 계획이라고 경고했다고 보도했습니다.
(CNBC에 따르면)
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